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    为什么波长在10纳米以下的x射线光刻机，最后被极紫外光（euv）淘汰?

    原因有两个，一是效率问题，x射线照射下光刻胶的光刻速度比较慢；二是精确度问题，为什么说波长10纳米以下的x射线，光刻精度差?因为掩模做不到10纳米以下。

    掩模就是电路图的母板，为什么极紫外光（euv）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线，而所有人都知道x射线的穿透力非常强，凸透镜根本无法聚焦。

    所以x射线光刻机被淘汰了。

    市面上没有x射线光刻机，也就意味着没有客户。

    “这个问题不是问题。”

    “社长没有客户的话……”

    黄明哲打断了马知力：“知道x射线光刻机为什么被淘汰吗?”

    马知力点了点头。

    “效率问题在于光刻胶的光敏性，如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的x射线光刻胶，那效率还是问题吗?”黄明哲反问道。

    “嗯?”马知力一愣。

    确实如同黄明哲说的那样，光刻效率问题其实就是光刻胶光敏性的影响，归根结底就是材料问题，而材料问题不恰恰就是思维社的强项?

    “至于凸透镜无法聚焦x射线，我们为什么不制造一种可以聚焦x射线的凸透镜，这个同样是凸透镜材料的光敏性，材料可以改变一切。”黄明哲笑着提醒道。

    “对啊！我怎么没有想到?”马知力顿时瞪大眼睛。

    其他人顿时也呼吸急促起来，如果他们解决了光刻胶和凸透镜的光敏性，岂不是相当于完成了x射线光刻机的缺点弥补。

    而x射线光刻机的先天性优势，就是发散性低、光线集中、波长短小精悍。

    “我们要完成一个独立自主的光刻机系统，就不能按部就班走西方人的老路，不然永远无法超越对方。”黄明哲说道。

    这个问题其实就是国内光刻机行业发展的拦路虎，按照西方人的路线走，别人的专利怎么绕过去?

    另外光刻机的市场非常小，全世界来来去去就那么多家芯片制造企业，阿斯麦公司和这些芯片制造企业的关系千丝万缕，哪怕是造出来，估计也卖不出去。

    “社长，我们马上安排材料计算，一定拿下x射线光刻胶和x射线凸透镜。”马知力坚定的说道。

    “注意休息，身体是革命的本钱。”黄明哲关心的说道。

    “多谢社长关心，我一定注意。”
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